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          東方晶源微電子科技北京股份有限公司專利技術

          東方晶源微電子科技北京股份有限公司共有295項專利

          • 本發明提供了一種隔震裝置及半導體設備,隔震裝置用于將分子泵連接在樣品室上,包括彈性管件;彈性管件包括彈性部,彈性部包括多個凸部和多個凹部,每個凹部位于相鄰兩個凸部之間,凸部的直徑大于凹部的直徑;多個凹部包括第一凹部和第二凹部,第一凹部的...
          • 本申請提供一種電源開關裝置及半導體設備,涉及電路技術領域,該電源開關裝置包括:電源、控制模塊、開關模塊及分壓模塊;電源的輸出端連接于分壓模塊的輸入端和開關模塊的第一輸入端,開關模塊的第二輸入端與分壓模塊的輸出端連接;控制模塊的第一連接端...
          • 本申請提供一種電源控制電路及半導體設備,涉及電路技術領域,該電源控制電路包括:第一電源、第一控制模塊以及第二電源;所述第一控制模塊的第一連接端與所述第一電源的輸入端連接,所述第一控制模塊的第二連接端與所述第一電源的信號端連接,以接收所述...
          • 本申請提供一種電子束掃描成像中的干擾信號補償方法、裝置及電子設備,包括:獲取基準方向上的掃描圖像;根據所述掃描圖像,確定所述掃描圖像中的干擾信號的基準信號模型;基于所述干擾信號的基準信號模型,確定目標補償模型;基于所述目標補償模型,對掃...
          • 本發明提供一種電子束量測裝置,該裝置包括電子槍、電透鏡、磁透鏡、偏轉器、物鏡以及電子探測器;電子槍用于產生電子束;電透鏡用于產生電場,以對電子束進行第一次會聚;磁透鏡用于產生磁場,以對電子束進行第二次會聚;偏轉器用于偏轉電子束,以對晶圓...
          • 本申請屬于半導體器件檢測設備技術領域,尤其是涉及一種照明裝置及半導體檢測設備。該照明裝置用于半導體檢測設備中并包括發光機構和第一光路模組;發光機構的至少部分設置于半導體設備的腔室中,以為腔室提供光照;第一光路模組設置于腔室中、且至少部分...
          • 本申請屬于光電探測技術領域,尤其是涉及一種光電探測器。該光電探測器包括光電轉換模塊以及多個光導元件;光電轉換模塊包括多塊電路板以及多個光電轉換元件,多塊電路板堆疊并間隔設置,各電路板設有至少一個光電轉換元件;各光導元件一一對應連接于各光...
          • 本申請提供一種電流方向的切換控制裝置及電流方向的檢測系統,涉及電路技術領域,該電路包括:第一供電電路、第二供電電路、繼電器、負載電路及控制電路;所述第一供電電路中的電流方向與所述第二供電電路中的電流方向相反;所述繼電器連接于所述負載電路...
          • 本申請提供一種電流方向的檢測裝置及電流方向的檢測系統,涉及電路技術領域,該電路包括:開關單元、運放單元及控制單元;所述開關單元的第一輸入端用于接收第一方向電流,所述開關單元的第二輸入端用于接收第二方向電流,所述開關單元的第一輸出端與所述...
          • 本申請屬于同軸調節設備技術領域,尤其是涉及一種對中裝置及方法。該對中裝置用于調節第二對中件與第一對中件之間的同軸度,對中裝置包括第一檢測模塊、調節模塊以及第二檢測模塊;第二對中件預固定于第一對中件形成預連接工件組,預連接工件組能夠置于調...
          • 本發明涉及光刻領域,特別涉及一種芯片設計版圖優化方法及裝置。本發明提供的一種芯片設計版圖優化方法,用于對設計版圖內存在角對角規則的相鄰圖形進行優化修正,包括以下步驟:獲取圖形中角的頂點位置,并獲得相鄰圖形的頂點之間的最短距離;基于預設角...
          • 本申請屬于密封閥門技術領域,尤其是涉及一種密封閥門及掃描電鏡密封結構。該密封閥門包括驅動機構、密封結構以及限位結構,密封結構連接于驅動機構;密封結構包括密封組件,限位結構包括第一滾動件,驅動機構能夠驅動密封結構沿第一方向移動并使密封組件...
          • 本申請屬于密封閥門技術領域,尤其是涉及一種密封閥門及半導體檢測設備。該密封閥門包括密封組件、第一筒體組件以及驅動裝置,驅動裝置的部分設置于第一筒體組件內并與第一筒體組件活動連接,密封組件位于第一筒體組件外并連接于驅動裝置,驅動裝置能夠驅...
          • 本申請屬于半導體及集成電路制造技術領域,尤其是涉及升降旋轉臂及半導體設備。該升降旋轉臂包括升降機構、旋轉機構、支撐框架以及托臂;升降機構包括第一驅動裝置以及第一活動支架,第一驅動裝置設置于支撐框架,第一活動支架連接于第一驅動裝置且位于支...
          • 本發明涉及集成電路設計技術領域,特別涉及一種設計版圖圖形處理時間估算方法、裝置和計算機設備。本發明提供的一種設計版圖圖形處理時間估算方法,包括以下步驟:將設計版圖劃分為多個分塊;隨機選取某一分塊,并獲取該分塊的圖形密度;獲取設計版圖的平...