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          索尼半導(dǎo)體解決方案公司專利技術(shù)

          索尼半導(dǎo)體解決方案公司共有2969項(xiàng)專利

          • 根據(jù)本發(fā)明的固態(tài)成像器件設(shè)置有:像素陣列單元,其中,包含光電轉(zhuǎn)換元件的單位像素被布置為矩陣形式,單位像素被分成多個(gè)像素組;和時(shí)序控制器,該時(shí)序控制器針對(duì)多個(gè)像素組中的各組獨(dú)立地設(shè)定曝光開始時(shí)刻和曝光結(jié)束時(shí)刻,使得對(duì)于多個(gè)像素組中的至少一...
          • 本發(fā)明改進(jìn)了設(shè)置有觸發(fā)器的相位檢測(cè)器的工作范圍,并且接收電路的抖動(dòng)容限增強(qiáng)。相位檢測(cè)器包括保持單元和檢測(cè)單元。在相位檢測(cè)器中,保持單元保持輸入信號(hào)與預(yù)定周期性信號(hào)同步。檢測(cè)單元基于保持在保持單元中的信號(hào)來檢測(cè)指定邊沿和預(yù)定周期信號(hào)之間的...
          • 在固態(tài)圖像拾取元件中主要是提高近紅外光的靈敏度,并抑制混色。固態(tài)圖像拾取元件包括像素、光接收表面?zhèn)葴喜酆凸饨邮毡砻鎮(zhèn)绕帘螛?gòu)件。在固態(tài)圖像拾取元件中的像素的光接收表面上形成多個(gè)突起。另外,在具有形成在固態(tài)圖像拾取元件中的光接收表面處的多個(gè)...
          • 本發(fā)明公開了一種成像元件,其包括設(shè)置在基板中的第一像素。第一像素可以包括設(shè)置在所述基板中的第一材料和設(shè)置在所述基板中的第二材料。第一材料的第一區(qū)域、第一材料的第二區(qū)域和第二材料的第三區(qū)域形成至少一個(gè)結(jié)。所述基板的第一橫向截面與所述至少一...
          • 本技術(shù)涉及半導(dǎo)體芯片和電子裝置,其可抑制包括圖像拾取設(shè)備的半導(dǎo)體芯片的光學(xué)特性的劣化。半導(dǎo)體芯片包括:圖像拾取設(shè)備;保護(hù)圖像拾取設(shè)備的透明保護(hù)構(gòu)件;布置在圖像拾取設(shè)備的受光面和保護(hù)構(gòu)件之間的IR截止膜;將IR截止膜和保護(hù)構(gòu)件粘合在一起的...
          • 本技術(shù)涉及一種可以提高產(chǎn)出的固態(tài)圖像拾取裝置、其制造方法、以及電子設(shè)備。該固態(tài)圖像拾取裝置包括:光學(xué)傳感器,其包括光接收單元;以及蓋玻璃,其設(shè)置在所述光學(xué)傳感器的所述光接收單元側(cè)。所述蓋玻璃包括位于脊部的倒角部,所述脊部包圍所述光學(xué)傳感...
          • 本公開涉及成像裝置,該成像裝置能夠提出設(shè)置有供消費(fèi)者使用的具有最大可能尺寸的成像元件和在光學(xué)上較亮并且具有較簡(jiǎn)單透鏡配置的單焦透鏡。根據(jù)本公開的第一方面的一種成像裝置設(shè)置有:?jiǎn)谓雇哥R,其從物側(cè)起依次包括具有正光焦度的第一透鏡組、孔徑光闌...
          • 根據(jù)本公開的電位測(cè)量裝置包括多個(gè)讀出電極,其以陣列形狀布置并且配置為檢測(cè)由于化學(xué)變化產(chǎn)生的電位生成點(diǎn)處的電位;和參考電極,其配置為檢測(cè)參考電位。該參考電極布置在該讀出電極的陣列內(nèi)部。在這個(gè)配置下,其中獲得其中可以降低疊加在從每個(gè)讀出電極...
          • 本發(fā)明涉及固態(tài)攝像器件以及電子裝置。該固態(tài)攝像器件包括光電轉(zhuǎn)換器件,所述光電轉(zhuǎn)換器件包括:至少一層非黃銅礦類化合物半導(dǎo)體,其是晶格鍵合的或偽晶格鍵合的,并形成在硅基板上;以及至少一層黃銅礦類化合物半導(dǎo)體,其形成在所述非黃銅礦類化合物半導(dǎo)...
          • 狀態(tài)機(jī)控制的MOS線性電阻器
            一種采樣保持電路,其包括:采樣電容器;第一晶體管;第一開關(guān),其位于所述第一晶體管的柵電極和源電極之間;第一電流源,其連接至所述第一晶體管的所述源電極;以及電阻元件和第二開關(guān),所述電阻元件和所述第二開關(guān)并聯(lián)連接在所述第一晶體管的漏電極和預(yù)...
          • 發(fā)光裝置
            提供一種包括多個(gè)更高度集成的封裝體的發(fā)光裝置。該發(fā)光裝置設(shè)置有:多個(gè)封裝體,每個(gè)封裝體包括第一基板和第二基板,第二基板上排列多個(gè)封裝體。在該連接件中,第一基板設(shè)置有:第一光源和第二光源,第一光源包括:發(fā)射具有第一波長(zhǎng)的光的第一發(fā)光部,以...
          • 固體攝像元件、固體攝像元件制造方法和電子設(shè)備
            本技術(shù)涉及:能夠抑制FD存儲(chǔ)型傳感器中的FD發(fā)生結(jié)漏和擴(kuò)散泄漏的固體攝像元件、用于制造固體攝像元件的方法;以及電子設(shè)備。固體攝像元件包括:光電二極管,所述光電二極管根據(jù)入射光的光量進(jìn)行光電轉(zhuǎn)換;光電轉(zhuǎn)換膜,所述光電轉(zhuǎn)換膜根據(jù)入射光的光量...
          • 攝像裝置
            提出一種成像器件以及包括有成像器件或攝像元件的電子裝置。公開的成像器件能夠包括:基板;第一光電轉(zhuǎn)換器,具有形成在所述基板中的第一區(qū)域;和第二光電轉(zhuǎn)換器,具有形成在所述基板中的第二區(qū)域。所述第一區(qū)域大于所述第二區(qū)域。此外,遮光壁能夠從所述...
          • 半導(dǎo)體裝置和用于制造半導(dǎo)體裝置的方法
            本發(fā)明涉及攝像裝置,所述攝像裝置包括第一半導(dǎo)體元件,所述第一半導(dǎo)體元件包括至少一個(gè)具有凹陷形狀的凸塊焊盤。所述至少一個(gè)凸塊焊盤包括第一金屬層和所述第一金屬層上的第二金屬層。所述攝像裝置包括第二半導(dǎo)體元件,所述第二半導(dǎo)體元件包括至少一個(gè)電...
          • 測(cè)距裝置和測(cè)距裝置的控制方法
            本發(fā)明改善了接收間歇光的測(cè)距裝置中的深度圖的圖像質(zhì)量。在像素陣列部中,用于接收預(yù)定間歇光的多個(gè)像素以二維格子狀排列。連續(xù)光圖像數(shù)據(jù)生成部(310)基于所述多個(gè)像素的受光數(shù)據(jù)(Q1~Q4)來生成指示多個(gè)像素的預(yù)定連續(xù)光的亮度的多條圖像數(shù)據(jù)...
          • 光學(xué)脈沖檢測(cè)裝置、光學(xué)脈沖檢測(cè)方法、輻射計(jì)數(shù)裝置和生物測(cè)試裝置
            本技術(shù)涉及能夠進(jìn)行更準(zhǔn)確的輻射計(jì)數(shù)的光學(xué)脈沖檢測(cè)裝置、光學(xué)脈沖檢測(cè)方法、輻射計(jì)數(shù)裝置和生物測(cè)試裝置。提供了一種光學(xué)脈沖檢測(cè)裝置,包括:像素陣列部,其中多個(gè)像素以二維格子狀排列;AD轉(zhuǎn)換器,其將所述像素陣列部的各像素的輸出信號(hào)轉(zhuǎn)換成具有大...
          • 成像元件和成像裝置
            本發(fā)明提供了一種成像元件,其包括形成在基板上的光電轉(zhuǎn)換單元和配置在光電轉(zhuǎn)換單元的光入射側(cè)的線柵偏振元件。此外,所述線柵偏振元件包括多個(gè)條狀部分,其中相鄰的條狀部分之間存在空隙。此外,在所述線柵偏振元件上形成有保護(hù)層。
          • 成像元件、成像元件的制造方法、成像裝置以及成像裝置的制造方法
            本公開提供了一種成像裝置的制造方法,所述成像裝置在成像區(qū)域中包括多個(gè)成像元件,其中各個(gè)所述成像元件包括基板中的光電轉(zhuǎn)換部和配置在所述光電轉(zhuǎn)換部的光入射側(cè)的線柵偏振器。所述方法通常包括形成包括多個(gè)層疊條形部分的線柵偏振器,其中所述多個(gè)層疊...
          • 距離測(cè)量設(shè)備、電子設(shè)備以及距離測(cè)量設(shè)備的控制方法
            本發(fā)明減少用于基于光束的相位差來測(cè)量距離的設(shè)備中的功耗。該測(cè)距裝置設(shè)置有:相位差檢測(cè)單元和測(cè)距單元。在測(cè)距裝置中,相位差檢測(cè)單元檢測(cè)來自一對(duì)外部光源中的每個(gè)光源的光之間的相位差。此外,在測(cè)距裝置中,測(cè)距單元獲取距一對(duì)外部光源中的一個(gè)光源...
          • 成像裝置
            通過組合多種測(cè)距方案以在避免投影光的干涉的同時(shí)提高測(cè)距精度。光源投影單元投影被強(qiáng)度調(diào)制的空間圖案光。光飛行時(shí)間測(cè)距相機(jī)基于當(dāng)空間圖案光從被攝體反射時(shí)獲得的反射光中包括的調(diào)制分量的光飛行時(shí)間來測(cè)量到被攝體的距離??臻g信息測(cè)距相機(jī)基于反射光...