本發(fā)明屬于電數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)處理技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種基于基底參數(shù)自適應(yīng)生成光學(xué)微圖案的設(shè)計(jì)方法,包括:獲取實(shí)際基底的非均勻物理參數(shù)圖,并以此為據(jù)構(gòu)建一個(gè)表征光學(xué)性能偏差的光學(xué)殘差勢(shì)場(chǎng),隨后,以參考圖案為初始,在勢(shì)場(chǎng)中對(duì)微圖案單元執(zhí)行迭代優(yōu)化,其...