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          晶萊特有限公司專利技術(shù)

          晶萊特有限公司共有1項(xiàng)專利

          • 一種用于合成碳納米材料的新工藝,其通過(guò)在環(huán)境壓力和50°C至150°C的范圍內(nèi)的起始溫度下,在氫提取劑、離子鹽和溶劑存在的情況下,將含氧碳源進(jìn)行熱化學(xué)還原。所述碳納米材料選自下述的組中:具有1D結(jié)構(gòu)、2D結(jié)構(gòu)或3D結(jié)構(gòu)的納米結(jié)晶碳,石墨...
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